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日々の仕事のこと、観劇・鑑賞記録、出張報告など、国内外の舞台芸術を中心としたアートおよびアートマネジメント全般がテーマです。
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【告知】急な坂スタジオ・レジデント・アーティスト公募

急な坂スタジオで、4人目のレジデント・アーティストの公募を開始しました。
ぜひ多くの方々にご応募いただければ幸いです。

以下、ご自由にご転送・ご転載ください。


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急な坂スタジオでは、岡田利規、矢内原美邦、中野成樹につづく4人目のレジデント・アーティストを公募いたします。

横浜から世界へ質の高い舞台芸術を発信することを目指し、世界を舞台に活躍するアーティストが一つの稽古場に集まることで、互いに刺激しあう有機的なアーティスト・コミュニティが形成されることを狙いとしています。

レジデント・アーティストは、急な坂スタジオで優先的な稽古場利用が認められる一方で、公開稽古やワークショップ等を通じて、彼らの次世代のアーティストの育成や、地域・市民との交流も積極的に行なうこと、急な坂スタジオでの主催事業への参加が求め られます。


要項および応募用紙は下記の通り。ダウンロードの上ご使用下さい。(※応募締切 2007年2月15日必着)

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急な坂スタジオ レジデント・アーティスト応募要項

1.目的
急な坂スタジオでは、岡田利規、矢内原美邦、中野成樹につづく4人目のレジデント・アーティストを公募します。横浜から世界へ質の高い舞台芸術を発信することを目指し、世界を舞台に活躍するアーティストが一つの稽古場に集まることで、互いに刺激しあう有機的なアーティスト・コミュニティが形成されることを狙いとしています。レジデント・アーティストは、急な坂スタジオで優先的な稽古場利用が認められる一方で、公開稽古やワークショップ等を通じて、彼らの次世代のアーティストの育成や、地域・市民との交流も積極的に行なうこと、急な坂スタジオでの主催事業への参加が求められます。

2.レジデント対象期間2007年4月1日~2009年3月31日

3.募集対象・人数アーティスト/1名(国籍不問)

4.応募条件
a)舞台芸術の分野で活動しているアーティスト
b)急な坂スタジオの主催事業(ワークショップ・アーティストトーク・交流教育プログラム・稽古場公開など)に積極的に参加できること
c)英語あるいは日本語によるコミュニケーションが可能なこと

5.応募方法
受付期間:2007年1月4日~2月15日  結果通知:2007年3月15日
※決定は、発送を持って替えさせていただきます。

6.応募書類
応募申請書(写真貼付)
映像資料(DVDもしくはVHS)
* 主要作品のフルスケール映像1本 ※必須
* その他、作品の抜粋映像を1本にまとめたもの ※合計2本まで
過去の公演のチラシ・パンフレット 各1部ずつ

7.選考および通知
提出された資料をもとに急な坂スタジオのスタッフおよびレジデント・アーティストにて選考・決定されます。
※尚、申請内容の確認のため急な坂スタジオよりお問合せさせて頂く場合もございます。

8.レジデント・アーティストに対する支援内容
・急な坂スタジオは、レジデンス対象期間における制作場所として、当館施設を優先的に無償で貸与します。(スタジオ利用における長期専有には限りがあります)
・制作・広報協力(具体的にはアーティストへのヒアリングを通じて内容を決定していきます)

9.レジデント・アーティストとしての活動内容
【活動内容】
アーティストはレジデンス対象期間における作品制作を原則として当館にて行い、当館の主催事業への積極的な参加が必須となります。
【活動記録】
急な坂スタジオは、本プログラムにおけるアーティストの作品および活動を写真・ビデオで記録します。アーティストは上記記録のためご協力下さい。制作された作品の著作権は、全てアーティスト本人に帰属しますが、当館が記録した写真・映像等の著作権および公益に資する広報宣伝のためにそれらを使用する権利は当館に帰属するものとします。また、当館および当館の了承を受けたものはこれらを全て無償で使用できるものとします。

応募用紙はこちらからダウンロード →
by smacks | 2007-01-06 17:57 | ■横浜【急な坂スタジオ】
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